【大纪元12月2日报导】（中央社记者黄兆平纽约1日专电）又有台湾年轻服装设计新秀跃登国际舞台！刻于英国进修的古又文入围2009年美国最大国际服装竞赛，成为全球25位进入决赛设计师之一，并将角逐“前卫时装奖”。
“Gen Art’s Styles International Design Competition”国际服装竞赛，2日晚间将于纽约曼哈坦中城7W NEW YORK揭晓。
古又文毕业于树德科技大学流行设计系，后又取得辅仁大学织品服装研究所硕士，正在伦敦设计名校─中央圣马丁斯艺术设计学院（Central Saint MartinsSchool of Art and Design）攻读硕士学位，主修针织服装。 现年30岁的古又文自17岁起对设计产生兴趣，辅大求学期间，曾多次参加国际性服装设计比赛。2005年荣获上海“东华杯”国际服装大赛金奖，当年自创个人工作室─Johan Ku Design Studio，开始接触设计师品牌、毛衣与机能性服装等不同型态设计专案；2007年两度参与香港时装周，跨入国际时装市场。 古又文这次入围2009年美国最大国际服装竞赛，成为全球25位进入决赛设计师之一，并将与其他4位入选者角逐表彰设计师创意的“前卫时装”（Avant-Garde）奖项。 他的作品强调材质特性，创作风格以具有雕塑般外观线条的前卫服装着称，这次入围竞赛的毛衣作品，即以堆叠交织的毛线营造立体感，加上丰富的线条变化，从全球上千位设计师中脱颖而出，进入决赛。 “Gen Art’s Styles International Design Competition”今年踏入第11届，是纽约时尚界盛事之一，也是许多重要品牌及时尚评论家观察、搜寻具潜力设计新秀的场域。 今年评审从上千件设计案中选出25位分别来自台湾、土耳其、德国、纽西兰、澳洲、以色列及美国的设计师；竞赛项目计分前卫时装、晚宴服、女装成衣、男装及配件等五类。 古又文入围的“前卫时装”类，着眼设计师挑战时装概念的独特创造力，代表设计师殊荣的大奖，殊为不易。 古又文是继萧志美（Anna Sui）、吴季刚（JasonWu）、贾雯兰（Wenlan Chia）等之后，在纽约时装伸展台大展身手的台湾服装设计师。
