力晶茂德:尽速提出0.18微米制程登陆申请

【大纪元12月29日报导】(中央社记者张建中新竹二十九日电)台湾经济部投资审议委员会今天决定，将现行准许赴大陆投资的8吋晶圆制程技术，由0.25微米放宽至0.18微米；对此，力晶半导体公司及茂德科技二家厂商均表示欢迎，并将尽速提出申请。

力晶发言人谭仲民表示，公司将尽速提出申请赴大陆投资0.18微米制程；只是大陆设厂计划，公司仍在评估赴大陆生产的产品线，待产品线决定后，才会进一步敲定设厂地点。

茂德副总彭卓兰说，政府开放赴大陆投资0.18微米制程技术，公司将会依规定尽速提出申请，预期将有助于提升公司未来在大陆市场的竞争力。

彭卓兰表示，重庆是茂德大陆设厂的首选地点，至于设厂时程，还有相关细节等问题，需与当地进行协商。